Huawei regisseert Chinese ontwikkeling van ASML-alternatief

Huawei regisseert Chinese ontwikkeling van ASML-alternatief

Huawei krijgt een centrale rol in de Chinese ontwikkeling van eigen lithografiemachines. Het concern investeert in leveranciers en helpt nieuwe apparatuur bij chipfabrikanten te introduceren. Voor enkele cruciale onderdelen blijft de Chinese industrie echter afhankelijk van buitenlandse technologie.

Dat meldt de Financial Times op basis van gesprekken met betrokkenen uit de sector. Huawei zou optreden als coördinator van de inspanningen rond deep ultraviolet-lithografie (DUV). Daarbij brengt het bedrijf leveranciers van onderdelen en Chinese chipfabrikanten bij elkaar. Onder meer SMIC test inmiddels apparatuur die uit deze samenwerking voortkomt.

China probeert al jaren een eigen industrie voor lithografieapparatuur op te bouwen. Daarbij ontstonden verschillende gespecialiseerde leveranciers, maar ontbrak volgens analist Lin Qingyuan van Bernstein een partij die de ontwikkeling over de gehele keten kon sturen, meldt TNW.

Huawei lijkt die positie nu in te nemen. Het bedrijf investeert niet alleen in fabrikanten van onderdelen, maar gebruikt zijn positie ook om nieuwe apparatuur daadwerkelijk bij chipfabrikanten te laten testen. Dat is belangrijk omdat fabs risico lopen wanneer zij onbewezen machines in hun productieproces opnemen.

Een belangrijke speler is het in Shanghai gevestigde Yuliangsheng. Het bedrijf werkte mee aan een geavanceerde Chinese DUV-machine die momenteel door SMIC en Huawei wordt getest. Yuliangsheng is volgens de Financial Times voortgekomen uit SiCarrier, een onderneming die volgens eerdere berichtgeving nauwe technische en zakelijke banden met Huawei heeft. Huawei ontkent dat SiCarrier aan het concern is gelieerd.

Yuliangsheng wil voor het einde van dit jaar twaalf DUV-machines produceren. SMIC zou een 28nm-model testen en multi-patterning gebruiken om daarmee chips op 7nm-niveau te vervaardigen. Bij deze techniek wordt een wafer meerdere keren belicht om kleinere structuren mogelijk te maken.

Duitse optica blijft noodzakelijk

Juist bij de meest complexe onderdelen blijkt hoe groot de technologische achterstand nog is. Volgens bronnen van de Financial Times gebruikt de machine van Yuliangsheng projectielenzen van het Duitse Zeiss. Dat bedrijf levert zijn lithografische optica naar eigen zeggen uitsluitend aan ASML. Volgens bronnen uit de industrie kunnen dergelijke componenten via de Chinese secundaire markt beschikbaar komen.

Huawei investeert daarom ook in de ontwikkeling van Chinese alternatieven. Zijn investeringsvehikel Habo en een ander door Huawei gesteund fonds hebben geld gestoken in Fujian Zhiqi Photonics, een producent van ultraprecieze optica. Het bedrijf werd in 2022 afgesplitst van Castech, dat zowel ASML als Huawei als klant heeft genoemd.

Ook de lichtbron vormt nog een knelpunt. Deze markt wordt gedomineerd door het Japanse Gigaphoton en het Amerikaanse Cymer, dat eigendom is van ASML. Huawei heeft via Habo eveneens geïnvesteerd in Beijing RSLaser Opto-Electronics, dat Chinese lichtbronnen voor lithografiemachines ontwikkelt.

RSLaser leverde eerder technologie voor oudere systemen van Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE). Volgens Chinese media werken de bedrijven nu samen aan een lichtbron voor een 28nm-machine.

Achterstand op ASML blijft aanzienlijk

Dat Chinese chipfabrikanten binnenlandse DUV-machines testen, betekent nog niet dat zij op korte termijn zonder ASML kunnen. UBS schat dat China op lithografiegebied ongeveer het technologische niveau heeft bereikt waarop ASML rond 2004 stond. Ook zouden Chinese machines nog meerdere jaren nodig hebben om de productiviteit van ASML-systemen te benaderen.

Voor de daadwerkelijke productie blijven fabrikanten als SMIC daarom gebruikmaken van Nederlandse apparatuur. Ook zouden geheugenfabrikanten CXMT en YMTC voldoende ASML-machines hebben ingekocht om hun uitbreiding de komende jaren voort te zetten.

Ondertussen ontwikkelt ASML zijn technologie verder. Het bedrijf werkt met TSMC onder meer aan grotere fotomaskers voor High NA-EUV. Daarmee groeit niet alleen de Chinese capaciteit, maar verschuift tegelijkertijd de technologische grens die Chinese leveranciers proberen te bereiken.

De Amerikaanse exportbeperkingen kunnen daarbij een onbedoeld effect hebben. Bernstein-analist Lin stelt dat beperkingen Chinese fabs dwingen intensiever met binnenlandse leveranciers samen te werken. Daardoor krijgen fabrikanten van Chinese lithografieapparatuur meer mogelijkheden hun machines in de praktijk te verbeteren. Het beleid dat China minder toegang tot geavanceerde chiptechnologie moet geven, kan zo tegelijkertijd de ontwikkeling van een eigen Chinese toeleveringsketen versnellen.