TSMC start in juni met massaproductie 7 nm EUV-chips voor Huawei en Apple

Vandaag bakt TSMC al 7 nm-chips voor Apple (A12), Qualcomm (Snapdragon 855) en Huawei (Kirin 980). Het is de eerste generatie 7 nm-chips die van de band rollen bij TSMC. Vanaf juni start de tweede generatie die voor het eerst gebruik maakt van Extreme Ultravioletlicht (EUV).

Volgens een nieuw rapport van GizChina start TSMC met massaproductie van 7 nm EUV-chips op het einde van Q2 2019 en is de Huawei Kirin 985 de allereerste chip die van het nieuwe proces gebruik zal maken.

Allereerst was er het vermoeden dat deze chip van Huawei dit voorjaar al beschikbaar zou zijn. Nu zou de Kirin 985 naar Q3 2019 doorschuiven en debuteren in de nieuwe Mate-reeks die traditioneel in het najaar wordt gelanceerd. Er zijn weinig details bekend rond de chip, behalve dat het focust op het verbeteren van de basiskloksnelheid en daling van verbruik. Mogelijk zou het ook de allereerste chip zijn die een 5G-modem van Huawei integreert.

Concurrentie

Naast Huawei staat ook Apple klaar in de rij bij TSMC voor de nieuwe A13 die dit najaar in alle nieuwe iPhones verschijnt. Tegelijk laat TSMC weten dat het is gestart met de testproductie van 5 nm-chips. Geïnteresseerde fabrikanten kunnen ontwerpen insturen dit eindejaar en massaproductie staat gepland voor eind 2020.

Concurrent Samsung staat niet stil en heeft vandaag een beperkte 7 nm EUV fabricagelijn actief. Later dit jaar start de massaproductie van 6 nm-chips, de tweede generatie die gebruik maakt van EUV. Ondertussen heeft Samsung ook succesvol zijn 5 nm EUV-proces ontwikkeld, maar heerst er onduidelijkheid wanneer het start met de testproductie.

Intel blijft ondertussen hard werken aan zijn 10 nm-proces om vanaf eind 2019 massaproductie te garanderen. Het eerste EUV-proces op 7 nm heeft nog geen datum, maar volgt sowieso pas na 2020 omdat alle Intel Xeon-chips pas de stap naar 10 nm maken in 2020.

Waarom EUV?

Waarom is EUV zo belangrijk in de chipwereld? Vandaag gebruikt iedereen een Argon Fluoride (ArF)-laser die een diep Uv-licht produceert met een golflengte van 193 nm. Dankzij een techniek genaamd immersielithografie kunnen ze de resolutie verhogen, maar sommige complexe functies moeten ze vandaag in meerdere stappen doorlopen. EUV-lithografie genereert licht met een golflengte van 13,5 nm.

EUV heeft heel wat voordelen. Zo krijg je een beter resultaat op vlak van patroonefficiëntie en minder variabiliteit in dimensie. Kort samengevat: wat je print is wat je effectief krijgt. Samsung claimt dat de nieuwe tools 70 procent correctere patronen afleveren vergeleken met de 193 nm ArF-tools.

Het allerbelangrijkste is echter de budgetbesparing die EUV met zich meebrengt. Op 7 nm kan de machine contacten en bepaalde metaallagen met één stap maken, terwijl dat bij 193 nm ArF meerdere belichtingen nodig zijn.

Gerelateerd: Hoe EUV-lithografie een stoelendans in processorland veroorzaakt